 |
邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
12
聯系電話
|
邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
聯系電話
| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
|---|---|---|---|---|
|
Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE 簡單介紹：Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE ，加拿大進口桌面式設備，模塊化設計，可支持ALD原子層沉積，CVD化學氣相沉積，PECVD??等離子體增強化學氣相沉積和RIE??反應離子刻蝕。 產品型號：Table Top 3 所在地：武漢市 更新時間：2025-04-30 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
GEMStar XT臺式原子層沉積系統 簡單介紹：產品特點 美國ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統，在小巧的機身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可zui 多容納9片8英寸基片同時沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結合前驅體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設計，使溫度均勻性高達99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03% 以下。高溫度穩定度的設計不僅實現在8英寸基體上實現膜厚的不均勻性 產品型號：GEMStar XT 所在地：北京市 更新時間：2025-03-12 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
AT-200MAnric原子層沉積系統 簡單介紹：占地面積小的桌面系統（ 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺） 具有超快 MFC 的高溫兼容快速脈沖 ALD 閥，用于集成惰性氣體吹掃。 4 英寸圓形卡盤可定制，適用于較小尺寸或其他形狀（11 毫米高）。 3 種有機金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應物。 整個加熱管線（從前體到腔室）。 高曝光（用于溝槽和多孔基板）和靜態處理模式 全鋁（半導體級）腔室 ? 范圍高達 310°C 產品型號：AT-200M 所在地：北京市 更新時間：2025-03-11 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
|
AT-610原子層沉積系統 簡單介紹：原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。 產品型號：AT-610 所在地：北京市 更新時間：2025-03-11 |
參考價:¥60 詢價留言 | ||
|
AT-410原子層沉積系統 簡單介紹：原子層沉積系統（ALD）是一種基于自限制表面化學反應的優良薄膜沉積技術。通過交替通入不同前驅體氣體，在基底表面逐層形成單原子層厚度的薄膜，具有原子級精度控制和三維共形性覆蓋的特點，尤其適用于復雜結構和高深寬比器件的均勻鍍膜。 產品型號：AT-410 所在地：國外 更新時間：2025-03-11 |
參考價:¥60 詢價留言 | ||
